點(diǎn)腐蝕就是指在金屬材料表面大部分不腐蝕或者腐蝕輕微，而分散發(fā)生的局部腐蝕。一般點(diǎn)腐蝕的孔徑都小于1mm，深度都小于孔徑。不銹鋼在含有Cl的環(huán)境中容易出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕的傾向。 

 金屬材料在某些環(huán)境介質(zhì)中，經(jīng)過一定的時(shí)間后，大部分表面不發(fā)生腐蝕或腐蝕很輕微，但在表面的微小區(qū)域內(nèi)，出現(xiàn)蝕孔或麻點(diǎn)，且隨著時(shí)間的推移，蝕孔不斷向縱深方向發(fā)展，形成小孔狀腐蝕坑。這種現(xiàn)象稱為點(diǎn)腐蝕，亦稱為點(diǎn)蝕、小孔腐蝕、孔蝕。     

  點(diǎn)蝕幾何形態(tài)上構(gòu)成了大陰極小陽極的結(jié)構(gòu)，致使蝕孔的陽極溶解速度相當(dāng)大，能很快導(dǎo)致腐蝕穿孔破壞。此外，點(diǎn)蝕能夠加劇其他類型的局部腐蝕，如晶間腐蝕、應(yīng)力腐蝕開裂、腐蝕疲勞等。  點(diǎn)腐蝕的重要特征 點(diǎn)蝕多發(fā)生在表面生成氧化膜或鈍化膜的金屬材料上，或有陰極性鍍層的金屬上。 點(diǎn)蝕常常發(fā)生在有特殊離子的介質(zhì)中，即有氧化劑和同時(shí)有活性陰離子存在的鈍化性溶液中。活性陰離子是發(fā)生點(diǎn)蝕的必要條件。       

  點(diǎn)腐蝕是一種外觀隱蔽而破壞性極大的局部腐蝕形式，點(diǎn)蝕發(fā)生在特定臨界電位以上。 

影響點(diǎn)蝕的因素：

  1. 鹵素離子及其它陰離子：在氯化物中，鐵、鎳、鋁、鈦、鋯以及它們的合金均可能產(chǎn)生點(diǎn)蝕。鋅、銅和鈦在含氯離子的溶液中，也可遭受鈍態(tài)的破壞。      

    很多含氧的非侵蝕性陰離子，例如NO3-、CrO42-、SO42-、OH-、CO32-等，添加到含Cl-的溶液中，都可起到點(diǎn)蝕緩蝕劑的作用。     而硫氰酸根、高氯酸根、次氯酸根等，可以促進(jìn)點(diǎn)蝕。 

  2.  溶液中的陽離子和氣體物質(zhì)：腐蝕介質(zhì)中，金屬陽離子與侵蝕性鹵化物陰離子共存時(shí)，氧化性金屬離子，如Fe3+、Cu2+和Hg2+對(duì)點(diǎn)蝕起促進(jìn)作用。        

  3. 溶液的pH值： 在溶液pH值低于9～10時(shí)，對(duì)二價(jià)金屬，如鐵、鎳、鎘、鋅和鈷等，其點(diǎn)蝕電位與pH幾乎無關(guān)，高于此pH值時(shí)，其點(diǎn)蝕電位變正，是由于OH-離子的鈍化作用所致。     

    對(duì)三價(jià)金屬，例如鋁，發(fā)生點(diǎn)蝕的條件及點(diǎn)蝕電位都不受溶液pH值的影響，這是由鋁離子水解的各步驟的緩沖作用所致。 

 4. 環(huán)境溫度：對(duì)鐵及其合金而言，點(diǎn)蝕電位通常隨溫度升高而降低。

 5.介質(zhì)流速：溶液的流動(dòng)對(duì)抑制點(diǎn)蝕起一定的有益作用。